日前，半導(dǎo)體光刻用光源的制造商Gigaphoton宣布，公司已經(jīng)開始發(fā)貨新的KrF激光器“ G300K”，作為其GIGANEX系列的一部分，該系列使用半導(dǎo)體制造光刻光源。

KrF激光“ G300K”是基于Gigaphoton的用于光刻光源的KrF激光技術(shù)，在微燒蝕的“優(yōu)化處理”等概念下，在保持高穩(wěn)定性、99%以上的高可用性、高輸出的同時(shí)，價(jià)格實(shí)惠的機(jī)型。這有助于通過半導(dǎo)體制造后端過程中的加工過程提高微燒蝕的生產(chǎn)率和降低成本。

由多個(gè)芯片組成的下一代半導(dǎo)體封裝需要更小的外形尺寸，更高的工作頻率和帶寬，更高的功率效率以及更低的制造成本。近年來，所有人的目光都集中在滿足這些要求的封裝技術(shù)上，為此，連接各層的通孔的小型化至關(guān)重要。通過有機(jī)絕緣膜的處理進(jìn)行的微燒蝕引起了極大的關(guān)注，因?yàn)樗�可以高速且低成本地進(jìn)行。作為一種248nm波長的光源，KrF準(zhǔn)分子激光器G300K具有短波長和高通量的優(yōu)點(diǎn)，有利于小型化和高輸出。

Gigaphoton的總裁兼首席執(zhí)行官Katsumi Uranaka說：“ GIGANEX系列的新產(chǎn)品G300K可以滿足廣泛的客戶需求，并支持更高的生產(chǎn)率和更低的成本。

GIGANEX系列將被推廣到半導(dǎo)體制造以外的領(lǐng)域，并得到了廣泛客戶的期望，它將提供新的技術(shù)解決方案。我們將繼續(xù)努力，將我們的GIGANEX系列應(yīng)用于新的應(yīng)用領(lǐng)域，并為下一代工業(yè)領(lǐng)域的發(fā)展做出貢獻(xiàn)。”