大族激光8月10日在互動(dòng)平臺(tái)表示，公司在研光刻機(jī)項(xiàng)目分辨率3-5μm，主要聚焦在分立器件、LED等方面的應(yīng)用，目前已接到少量訂單。

光刻機(jī)是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細(xì)圖形通過(guò)光線的曝光印制到硅片上。而光刻機(jī)是中國(guó)芯片發(fā)展的最大障礙。

眾所周知，高端芯片制造所需的光刻機(jī)一直以來(lái)被荷蘭ASML公司壟斷，一臺(tái)精密光刻機(jī)售價(jià)上百億，而我國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)起步較晚，光刻機(jī)技術(shù)與ASML的差距非常大。

具體地，我國(guó)光刻機(jī)最高技術(shù)也就上海微電子所生產(chǎn)的90nm光刻機(jī)。除此之外，目前合肥芯碩半導(dǎo)體公司也具備量產(chǎn)200nm光刻機(jī)的實(shí)力，無(wú)錫影幻半導(dǎo)體公司也具備200nm光刻機(jī)量產(chǎn)的實(shí)力。而ASML則在7nm級(jí)別。

簡(jiǎn)單來(lái)看，這些數(shù)字差距可能看起來(lái)不大，但事實(shí)上，90nm跟28nm或者是7nm是千差萬(wàn)別的，光刻機(jī)每上一個(gè)臺(tái)階技術(shù)難度就會(huì)大大增加，可能從90nm升級(jí)到65nm并不難，但是從65nm升級(jí)到45nm，就是一個(gè)技術(shù)節(jié)點(diǎn)了，至于28nm、14nm和7nm，甚至未來(lái)有可能出現(xiàn)的3nm，那難度就更大了。也正因?yàn)槿绱�，我�?guó)的光刻機(jī)的研發(fā)進(jìn)度一直都比較緩慢。

據(jù)有關(guān)媒體報(bào)道，光刻機(jī)正成為華為的第四場(chǎng)戰(zhàn)役。據(jù)悉，余承東在一次百人大會(huì)上的時(shí)候透露過(guò)，早在四年前，華為就已經(jīng)為接下來(lái)集團(tuán)的布局做好準(zhǔn)備了，他們?cè)?016年的時(shí)候就已經(jīng)成立了團(tuán)隊(duì)去研發(fā)光刻機(jī)，現(xiàn)在已經(jīng)取得了很大的進(jìn)展。