近日，中科院合肥研究院安光所激光中心準分子激光團隊在氟化鈣(CaF2)晶體的準分子激光誘導損傷方面取得新進展，相關結(jié)果發(fā)表在Applied Surface Science等期刊。

CaF2晶體是紫外光學系統(tǒng)中的重要元件，尤其在半導體光刻系統(tǒng)中，CaF2晶體直接影響了系統(tǒng)的穩(wěn)定性和壽命，因此研究CaF2晶體的抗激光損傷能力在半導體光刻、光電對抗等應用領域具有重要意義。鑒于此，團隊梁勖研究員和邵景珍副研究員利用自研的193 nm和248 nm深紫外準分子激光，對CaF2晶體開展了激光誘導損傷研究。通過分析CaF2晶體晶面、解理面和滑移面三者之間的關系，總結(jié)了248 nm準分子激光對CaF2晶體(111)、(110)和(100)三個不同晶面的損傷機制。同時，在193 nm準分子激光輻照下，CaF2晶體表面形成了激光誘導周期性條紋結(jié)構（LIPSS），該結(jié)構的形成對CaF2晶體表面的激光微處理具有重要的指導意義。

上述研究工作得到中國科學院科研儀器設備研制項目、國家自然科學基金、中科院青年創(chuàng)新促進會及脈沖功率激光技術國家重點實驗室開放基金等項目的支持。

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